![]() |
||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| Домой | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
|
Меню:
Главная
AutoCAD
Исследования
МКЭ ANSYS
ANSYS (Басов К. А.)
Справочник AutoCAD
Взаимодействие фронтов
Проблемы охраны
Нелинейная динамика
Параметрический метод
Энерго информационная модель
Математическое моделирование
Институт теории образования
Коллапс волновой функции
Пенсионное обеспечение
Механосплавление металлов
Индуцированный распад
Фильтр
Электропроводность
Построение решения
Численное исследование
Об уравнениях
Нормирование
Фотолиз
Водородная связь
Концептуализация понятия
Термическая перегруппировка
Химическая поляризация
Многолетняя динамика
Индуцированное дефектообразование
Системы среднего
Морфология
Топологические дефекты
Правило Парето
Математическое моделирование
Метод уменьшения
Изменение
Содержание железа
Фауна
Алгоритм
Об идентификации
табличная модель
вероятности по частотам
Структурирование
Расчет
Анализ
Оценка
Частота
Закономерности
Клонируемые компьютеры
радионуклиды
манипуляция
Программная система
Тенденции
Физическая модель
|
[стр.-1] В табл. 1-3 приведены величины X1 и X2 (ширины высоко- и низкочастотных пиков первых производных резонансных линий, соответственно) при различных значениях частот генерации v0. Видно, что существует заметная зависимость X1 и X2 от v0 (ошибка измерений X1 и X2 составляет 5-8%). Таким образом, эти параметры определяются не только шириной линии монокристалла X, обусловленной диполь-дипольным межъядерным взаимодействием. В реальных кристаллах существуют дополнительные источники уширения, приводящие к частотной зависимости X. Естественно считать, что такими источниками могут быть пространственные вариации величин локальных электрических и магнитных полей в местах расположения ядер ванадия, вызванные дефектами решетки. В результате, имея экспериментальную зависимость X(v0), можно судить о степени искажения кристаллической решетки под влиянием дефектов и об однородности распределения магнитных ионов (в том числе примесей) по кристаллу. Измерения X(v0) на наш взгляд, могут расширить возможности ЯМР как метода исследования дефектности поликристаллов. Выражение для X можно записать в виде [8]: X = (X1 + X2)/2 = Xo + 5 X(v0), 5X(v0) = 1,33 • 10-2 (5(e2qQ))2/ v0 - 1,67 5oax v0.(1) Здесь 5(e2qQ) и 5oax - отклонения величин е2qQ и oax от своих средних значений. Вклад в X могут давать также 5г и 5oaniso, но так как X1 ~ X2 , будем считать 5г = 0 и 5oaniso = 0. Таблица 4 Разброс величин локальных электрических и магнитных полей в ортованадатах РЗЭ
В табл.4 даны найденные по формуле (1) относительные величины отклонений (8q)/q = 5(e2qQ)/(e2qQ) и (8oax)/oax, а также числа наблюдаемых пар сателлитных линий Nobs. Наблюдается корреляция между интенсивностью сигналов ЯМР (т.е. числом Nobs) и величинами (5q)/q и (8oax)/oax (для парамагнитных соединений). Исключение составляют H0VO4 и DyVO4 , резонансные линии которых значительно уширены из-за больших значений эффективных магнитных моментов ионов Но3+ и Dy3+ . Данные табл.4 свидетельствуют о том, что метод получения RVO4 из расплава ванадата натрия и R2O3 предпочтительнее по сравнению с твердофазным синтезом из оксидов. Аналогичный вывод о меньшей степени дефектности ортованадатов РЗЭ, полученных из R2O3 и NaVO3, сделан в работе [9] на основании измерения интенсивности пиков термостимулированной люминесценции. Таким образом, найденные нами параметры (8q)/q и (8oax)/oax, по-видимому, правильно передают относительные изменения степени несовершенства в ряду рассматриваемых соединений. Авторы благодарны доктору хим. наук М.Я. Ходосу за помощь в работе. Литература 1.Dridi Z., Bouhafs В., Ruterana P., Aourag H. J. Physics: Condensed Matter. 2002. V.14. Р. 10237. 2.Tsujimoto M., Kurata H., Nemoto T. J. Electron spectroscopy. 2005. V.143. Р. 159. 3.Моисеев Г.К., Ивановский А.Л. Электронный журнал "Исследовано в России". 2005. С. 1544. 4.Cohen M.N., Reif F. Solid State Phys. 1957. vol. 5. Р.321. 5.Ebert I., Seifert G. Kernresonanz im Festkorper. Leipzig: Akad. Verl. 1966. 410 s. 6.Андрианов Д.Г., Муравлев Ю.Б., Фистуль В.И., Шевакин А.Ф. Физика и техника полупроводников. 1978. Т.12. С.1512. 7.Дмитриев А.В., Плетнев Р.Н., Губанов В.А. ЯМР и дефекты в тугоплавких соединениях ванадия: Препринт. Свердловск: УНЦ АН ССР. 1983. 65 с. 8.Габуда С.П., Плетнев Р.Н. Применение ЯМР в химии твердого тела. Екатеринбург: Изд-во "Екатеринбург". 1996. 468 с. 9.Ходос М.Я. Автореф. дис. ... канд. физ.-мат. наук. Свердловск. УПИ. 1972. 10.Сликтер Ч. Основы теории магнитного резонанса. Пер. с англ./ Под ред. Г.В. Скроцкого. М.: Мир. 1967. |
Меню:
Стандартизация
Математика
Сапромат
Факторизация
Компьютерное моделирование
Обеспечение отказоустойчивости
Оптимизация доступа
Аномальный сдвиг
Экологические аспекты
Методические подходы
Возмущение ионосферы
основы
Инструментальное средство
Погрешность
Результаты
Изучение дефектов
Зависимость эндотелийзависимости
теплоперенос
Квантование
О дроблении
Экспериментальное изучение
Сравнительная оценка
пластинчатый теплообменник
экосистема
Моделирование
Многоэлектронные эффекты
Синтез
Распространение
Анализ видов
государство
Плотность состояний
Исследование
Квазитрехмерная модель
самшитовый биогеоценоз
временной ряд
вихревое поле
Эндотелийзависмый механизм
Теоретическое описание
коронирующий провод
построение модели
электрическое поле
формализм
Отклонения
Инновационное замещение
Динамика численности
сегрегация
среда обитания
специальный подход
инновационная деятельность
температура
Фоновая неоднородность
Цифровая обработка
Потенциалы
Связанность
|
||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
|
|
||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||